17-18年度版 EYELA総合カタログ 341-342(342-343)

概要

  1. 10.合成装置
  1. 341
  2. 342

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1010789111213141516134乾燥器電気炉純水製造装置2恒温器低温槽恒温槽合成装置濃縮装置減圧装置凍結・噴霧乾燥機撹拌機ガラス反応容器ガラスコーティング振盪機定量送液ポンプ液体クロマトグラフ培養装置滅菌装置研究補助準備機器合成装置機能・仕様一覧6冷却トラップ装置5低温・恒温水循環装置(チラー)341http://www.eyela.co.jp●推奨 ▲可(0℃以下での使用に不向き)ケミステーションと使用可能な冷却水循環装置の組合せによる温度調節範囲の性能比較型  式CCA-1112ACA-1116ACA-1330PFR-1000+PFP-1000NCB-2410A・B水道水PPM-5512(30mL以下)●●●●−10∼160℃−10∼160℃−20∼160℃水温+10℃∼160℃PPM-5512(50-60mL)●●●●−10∼130℃−10∼130℃−20∼130℃水温+10℃∼130℃PPS-1511●●●●−10∼160℃−10∼160℃−23∼160℃水温+10℃∼160℃PPS-2511▲●●●−10∼160℃−10∼160℃−27∼160℃水温+10℃∼160℃PPS-3511●●●−10∼130℃−28∼130℃水温+10℃∼130℃PPS-5511(30mL以下)●●●●−10∼160℃−10∼160℃−23∼160℃水温+10∼160℃PPS-5511(50-60mL)▲●●●−10∼130℃−10∼130℃−23∼130℃水温+10℃∼130℃PPV-3430・3460・3461・5460●●●−10∼200℃−27∼200℃水温+10℃∼200℃PPV-4430・4431・4460●●●−10∼200℃−10∼200℃水温+10℃∼200℃■パーソナル有機合成装置(ケミステーション)PPM・PPS・PPV型対応冷却水循環装置設定温度により組合せ可能な冷却水循環装置を下表より選択してください。●推奨 ▲可(0℃以下での使用に不向き)冷却水循環装置と使用可能な低温用熱媒体の組合せ低温用熱媒体/型式CCA-1112ACA-1116ACA-1330PFR-1000+PFP-1000NCB-2410設定温度−20℃−20℃−40℃55%エチレングリコール▲●55%ナイブライン®▲●エチルアルコール●●●■冷却水循環装置と使用可能な低温用熱媒体の組合せ●標準装備 ●オプション製品名パーソナル有機合成装置(ケミステーション)PPS型シリーズ・PPM型型  式PPS-1511PPS-2511PPS-3511PPS-5511PPM-5512掲載頁P.359P.359P.359P.357P.355合成スケール(mL)1∼410∼3050∼601.2∼601.2∼60温度調節範囲(℃)−23∼160−27∼160−28∼160−23∼160−20∼160適合容器掛数φ12───20本20本φ13───5/15本5/15本φ155本──5/15本5/15本φ16───5本5本φ16.5───5本5本φ18───5本5本φ20───5本5本φ21───5本5本φ24───5本5本φ25───5本5本φ30─5本─5本5本φ34───5本5本φ35──5本5本5本温度調節方式アルミブロックバス個別温調●●●●●温度・撹拌表示(デジタル)●●●●●加熱P.I.D制御●●●●●勾配制御●●●●リアクター制御●ジャケット制御●●●●●ステッププログラム機能●LED照明付●●●●スターラー(一括設定)●●●●スターラー(個別設定)●インペラー(個別設定)●●●●●●標準装備 ●オプション製品名パーソナル有機合成装置(ケミステーション)PPV型シリーズ型  式PPV-3430PPV-3460PPV-3461PPV-4430PPV-4431PPV-4460PPV-5460掲載頁P.361P.363P.362合成スケール(mL)301501501411631.2∼150温度調節範囲(℃)−27∼200−10∼200−27∼200適合容器掛数ガラス容器(㎜)φ304本─────4本φ34・φ38・φ50──────4本φ60(3口)─4本────4本φ60(4口)──4本───4本φ60セパラ(3口)──────4本φ60セパラ(4口)──────4本耐圧容器(㎜)φ30───4本──4本φ30(保護管付)────4本─4本φ60(保護管付)─────4本4本温度調節方式アルミブロックバス個別温調●●●●●●●デジタル温度表示●●●●●●●加熱P.I.D制御●●●●●●●勾配制御●●●●●●●ジャケット制御●●●●●●●観察窓付●●●●スターラー●●●●●●●インペラー●●●●加圧反応●●●●圧力測定●●●●合成装置の主な用途●反応の安全性評価●スクリーニング試験●プロセス最適化●有機化合物の合成●反応条件検討●リード化合物の合成●反応熱量の測定●再現性・品質管理Lineup機能・仕様一覧 
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111213141516撹拌機ガラス反応容器ガラスコーティング振盪機定量送液ポンプ液体クロマトグラフ培養装置滅菌装置研究補助準備機器1010789134乾燥器電気炉純水製造装置2恒温器低温槽恒温槽合成装置濃縮装置減圧装置凍結・噴霧乾燥機合成装置機能・仕様一覧6冷却トラップ装置5低温・恒温水循環装置(チラー)製品のご使用の前には「取扱説明書」を必ずお読みください。製品に関するお問合せはアイラ・カスタマーセンター342●標準装備 ●オプション製品名プロセスリアクター(リアクトマスター/マックス)プロセスリアクター(リアクトメイト)型  式DDS-1410DDS-2000ADDL-1000・2000DDL-3000掲載頁P.385P.389P.395P.393合成スケール(mL)20∼250100∼2000100∼1000400∼1000温度調節範囲(℃)−20∼20010∼80適合容器掛数セパラブルフラスコ(mL)504個───1004個───2504個1個1個─500─1個──1000─1個1個1個2000─1個──恒温方式アルミブロックバスジャケット温水循環式加熱冷却P.I.D制御●●●●勾配制御●●●●リアクター(液温)制御●●●●ジャケット(ブロック)制御●●●●断熱温度制御●●ステッププログラム機能●●インペラー●●●●マグネチックスターラー●滴下制御●●カロリーメトリー●●pH制御●●撹拌トルク測定●●標準装備 ●オプション製品名カラム型フローリアクター型  式MCR-1000CCR-1100GFFX-1000G掲載頁P.375P.376P.377最大使用圧力(MPa) オプション使用時0.80.60.8温度調節範囲(℃)50∼20050∼15050∼200最大流量-液体(mL/min)ポンプによる0.6(2.0)1最大流量-ガス(mL/min)MFCによる100100カラムサイズ触媒充填用カラムφ5×50H(㎜)●●●φ10×50H(㎜)●●●φ5・10×100H(㎜)●●φ3×50・100H(㎜)●恒温方式アルミブロックバスフロー式(水素化反応)●●●フロー式(液相反応)●カートリッジ式カラム●ガラスカラム●●(特注仕様)シートキー入力・デジタル設定●●PC制御●プランジャーポンプ●●チューブポンプ●●インジェクタ●●背圧弁●●●●標準装備製品名パーソナル有機合成装置(ゾディアック)CCX型シリーズ型  式CCX-3200CCX-1102・1112掲載頁P.365P.366合成スケール(mL)1∼603∼15温度調節範囲(℃)室温+10∼28050∼160適合容器掛数φ1232本─φ138/24本─φ158/24本─φ168本─φ16.58本─φ188本─φ208本─φ218本─φ248本12本φ258本─φ308本─φ348本─恒温方式アルミブロックバス温度表示(デジタル)●●回転表示(デジタル)●加熱P.I.D制御●●外部温度センサ●●入力調整式マグネチックスターラー●●●標準装備製品名スターラー付アルミブロック恒温槽(シンフレックス)型  式BBS+RCH-1000BBS+RCH-3掲載頁P.349合成スケール(mL)0.1∼30001.2∼300温度調節範囲(℃)50∼25050∼150適合容器掛数バイアル(mL)124本─218本─106本─チューブ(㎜)φ128/24本8本φ244/12本4本セパラ(㎜)φ38・50・601/3本1本φ451本─フラスコ(mL)5・10・20・251/3個1個30・50・100・1501/3個1個200・250・300・5001個1個1000・2000・30001個─4000・50001個─恒温方式アルミブロックバス温度表示(デジタル)●回転表示(デジタル)●加熱P.I.D制御●外部温度センサ●入力調整式●マグネチックスターラー●●●標準装備 ●オプション製品名マイクロ波反応装置(ウェーブプロ、ウェーブマジック)型  式GPS-1000・1000CMWS-1000A掲載頁P.381P.383合成スケール(mL)1∼500.5∼10温度調節範囲(℃)−15∼200室温+10∼70適合容器ガラス製反応容器(㎜)φ15・24・30・351本─PTFE製加圧容器(㎜)φ151本─PP製ディスポチューブ(mL)5・20─1本恒温方式マイクロ波(シングルモード)液相有機合成●ペプチド固相合成●マイクロ波出力制御●●マイクロ波吸収測定●●ジャケット(ブロック)制御●加熱冷却P.I.D制御●加熱P.I.D制御●マグネチックスターラー●ボルテックスミキサー●マイクロ波温度制御●●リアクター(液温)制御●還流制御●反応モニタリング●加圧反応●CCDカメラ●(C型のみ)

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