合成・反応装置ケミストプラザCP-300型 2-3(2-3)

概要

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本体制御部 ChemiChemi-300(全タイプ共通)①基本タイプ②300℃タイプ③加圧タイプ④マルチタイプ品名制御部合成スケールブロック部温度制御範囲回転プログラム機能使用可能圧力範囲対応反応容器寸法(W×D×Hmm)質量(kg)品目コード価格¥注)①と②と④は、反応容器・容器アダプターは含まれません。※3 室温プラス10℃以下で温度制御するには、別売の低温循環水槽が必要です。①CP-300基本タイプ200mL/120mL200mL/120mLタイプ1000mL/500mL1000mL/500mLタイプ200mL/120mL1000mL/500mL15∼70mL30∼120mL200mL/120mLタイプ300℃仕様1000mL/500mLタイプ300℃仕様200mL/120mLタイプ1000mL/500mLタイプ300℃マルチタイプ∼500mL②CP-300300℃タイプChemi Chemi-300(品目コード:054300-300)③CP-300加圧タイプ④CP-300マルチタイプ541,100541,100493,100691,100822,400913,200組合せによる−30∼200℃※3̶̶̶̶̶室温+10∼320℃室温+10∼320℃50∼1500rpm(撹拌可能な範囲で)温度・時間・撹拌の9ステップ×9プログラム設定可能−30∼200℃※3∼0.95MPa70mL加圧容器最大500mL丸フラスコ120mL加圧容器セパラブル反応容器(Oリングタイプ)単品組み合わせによる(組み合わせは最終ページの表をご参照ください)054300-3200160×350×30911.8/11.6230×380×32619.4/18.0210×390×32414.0/13.6270×450×34420.5/18.5177×350×62715.3233×380×63325.4210×300×26412.2054300-3300054300-3520054300-3530■設定可能温度は接続するブロックによって、−30∼ 200℃又は室温+10∼320℃に選択可能です。■温度・撹拌・時間のプログラム運転が可能です。■加熱ブロック部と制御部が独立。個別に設置でき、液体熱媒を使用しません。■外部出力有り。データロガーとの接続により、加熱温度・サンプル実温の記録が可能です。2■ケミストプラザCP-300シリーズ ケミストプラザCP-300シリーズは、強磁性マグネチックスターラーを内蔵した制御部と、ブロック部が分かれた合成・反応装置です。制御部は全タイプ共通で、反応スケール・温度制御範囲・圧力等様々な条件に合わせたブロック部をお選び頂けます。制御部とブロック部は離して設置することができるので、ブロック部だけをドラフト内に設置することも可能です。※1ブロック部には支柱ホルダーが標準で付属し、別途架台を用意する必要がありません。※2お客様の条件に合ったタイプをご選定ください。※1延長ケーブル1.5mセットが別途必要です。(詳細は3ページをご参照ください)※2φ12の支柱は別途必要です。本体は共通で、組み合わせによって様々な仕様に対応可能です。本体背面
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組み合わせ例3CP-300組み合わせ・オプション・周辺機器基本タイプ加圧タイプ300℃タイプ反応容器アダプターブロック部本体制御部マルチタイプ−30∼200℃1000/500/200/120mL500mL用120mL用500mL用120mL用200mL、1000mL200mL、1000mL−30∼200℃120/70mL1000/500/200/120mL加圧ユニットセットフラスコ用ビーズタイプオプション品周辺機器※300℃タイプ用温度センサーは別途お問い合わせください。※ガラス器具類のジョイントサイズ変更等、お気軽にご相談ください。ブロック部に接続して乾燥エアーを循環させることで、結露を軽減します。品目コード品  名価格¥054310-2661乾燥エアーポンプDAP-1055,000DAP-10台座※台座使用の有無については4ページ 以降をご参照ください。LEDライト使用例オプション装着・使用例暗闇の観察が容易です組み合わせ例(撹拌機、半月形ロート、50mL滴下容器)加熱ブロック部にはφ12mmの支柱を立てられるホルダーが標準装備∅3.2(テーパーサイズ:SPC-15)PTFE④⑤⑥⑦

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