合成・反応装置ケミストプラザCP-300型 4-5(4-5)

概要

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品名本体制御部合成スケール温度制御範囲回転プログラム機能アナログ出力寸法(mm)品目コード価格¥注)120mLと500mLの容器を使用する場合は、別売の加熱ブロックアダプターが必要です。※1室温プラス10℃以下で温度制御するには、別売の低温循環水槽が必要です。CP-300本体セット 200mLCP-300本体セット 1000mL200mL/120mL1000mL/500mLChemi Chemi-300(品目コード:054300-300)541,100493,100−30∼200℃※150∼1500rpm(可能な範囲で)温度・時間・撹拌の9ステップ×9プログラム設定可能DC4∼20mA054300-3200054300-3300基本タイプ基本タイプ組み合わせ詳細周辺機器本体制御部Chemi Chemi-300ポリカーボネートカバー反応容器は別売です。特注対応可能です4160(W)×350(D)×309(H)200mL/120mL用C-332型CS-340型230(W)×380(D)×326(H)型式温度制御範囲冷凍能力寸法(mm)電源品目コード価格¥C-332CS-340800W(室温20℃)230W(室温20℃)AC100V50/60Hz7.0/7.5AAC100V50/60Hz6.0/5.0A−20∼+20℃−45∼−5℃380,000258,000051140-332051140-340450(W)×210(D)×540(H)295(W)×395(D)×689(H)1000mL/500mL用■室温+10℃以下の反応につきましては、低温循環水槽の接続が必要です。基本仕様:−30℃∼200℃の温度領域で、加熱・冷却・撹拌1000mL・500mLタイプ1000mL1000mL054300-3210054300-3310054300-3001000mLタイプ台座あります。
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CP-300本体セット200mL(300℃)CP-300本体セット1000mL(300℃)室温+10∼320℃DC4∼20mA品名本体制御部合成スケール温度制御範囲回転プログラム機能アナログ出力寸法(mm)品目コード価格¥※120mLと500mLの容器を使用する場合は、別売の加熱ブロックアダプターが必要です。注)低温循環水槽に接続することはできません。200mL/120mL※1000mL/500mL※Chemi Chemi-300(品目コード:054300-300)691,100541,10050∼1500rpm(可能な範囲で)温度・時間・撹拌の9ステップ×9プログラム設定可能300℃タイプ組み合わせ詳細CP−300特注例:高精度液温コントロール仕様本体制御部Chemi Chemi-300反応容器は別売です。300℃タイプ200・120mL加熱ブロック 300℃仕様1000mL・500mL加熱ブロック 300℃仕様品目コード:054310-3300※300℃仕様専用Oリングを使用※300℃仕様専用Oリングを使用品目コード:054310-3310120mL用アダプター500mL用アダプター5300℃仕様ブロック■送風ファンにより、加熱後効率よく温度を下げます。■本体とは別に、任意に温度設定が可能な過昇温防止器付※低温循環水槽に接続することはできません。※過昇温防止器には、別途AC100V電源への接続が必要です。200mL/120mL用1000mL/500mL用210(W)×390(D)×324(H)270(W)×450(D)×344(H)送風ファン・過昇温防止器300℃仕様:室温+10℃∼320℃の温度領域1000mL1000mLタイプ台座台座054300-3500054300-3510054300-300CP-300型の従来の液温コントロールに加え、温度センサー2本と内温制御ユニットを追加するだけで設定温度に対するオーバーシュートをできる限り抑制した高精度液温コントロールタイプを、特注製作しております。構成:・合成・反応装置 CP-300型  ・液温制御コントロールユニット  ・データ収集用パソコン ・セパラブル反応容器  ・低温循環水槽:C-580型(設定温度-15℃)仕様:・設定温度範囲:-20∼+200℃(加熱・冷却仕様)         :室温+10∼300℃(加熱仕様)  ・サンプル量 :120∼1000mL   ・簡易プログラム機能(液温コントロール)  ・スターラー撹拌(上部撹拌対応可)■システム構成図※1サンプルによっては変動する場合があります。サンプル設定温度に対し、±0.2℃※1での制御が可能054300-3520054300-3530

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